4″ 6″ Semi-Insulating SiC Substrate

Brevis descriptio:

Semi-insulating SiC subiecta sunt materia semiconductor magna resistivity, resistivity altior quam 100,000Ω·cm. Semi-insulating SiC subiectae maxime ad Proin RF machinas fabricandas adhibentur ut gallium nitride Proin RF machinas et transistores mobilitatis altae electronicae (HEMTs). Hae machinis maxime adhibitae sunt in 5G communicationibus, satellitibus communicationibus, radarariis et aliis campis.

 

 


Product Detail

Product Tags

Semicerae 4" 6" Semi-Insulating SiC Substratum est materia alta qualitas quae ad restrictas requisita RF ac potentiae applicationes adveniat. Substratum optimam scelerisque conductivity componit et altam intentionem naufragii carbidi pii cum proprietatibus semi-insulantibus, quod optimam electionem facit ad excogitandas semiconductores progressus progressas.

4" 6" Semi-Insulating SiC Substratum diligenter fabricatum est ut altam materiam puritatis ac semi-insulating perficiendi constet. Hoc efficit ut subiectum necessariam segregationem electricam in RF artificiis praebeat ut amplificatores et transistores, dum etiam efficientiam thermarum ad applicationes altae potentiae requisitas praebens. Effectus est varius subiecta subiecta quae in amplis effectibus electronicis maximis faciendis adhiberi potest.

Semicera cognoscit momentum praestantiae certae, defectus liberae subiectae pro applicationibus semiconductoribus criticis. Noster 4" 6" Semi-Insulating SiC Substratum fit utens artificiosam fabricandi provectam quae defectibus cristallis obscuratis et uniformitatem materialem emendavit. Inde factum est ut cum aucta operatione, stabilitate et vita corporis fabricam machinis sustineret.

Semicera munus qualitatis efficit ut nostrum 4" 6" Semi-Insulating SiC Substratum certam et constantem observantiam per amplitudinem applicationum tradit. Utrum enucleares altum frequentiam machinas vel solutiones energiae efficaciae virtutis, semi-insulantes SiC subiecta fundamenta praebent successu electronicarum generationis sequentis.

Basic parametri

Magnitudo

6-inch 4-inch
Diameter 150.0mm+0mm/-0.2mm 100.0mm+0mm/-0.5mm
Superficiem propensionis {0001}±0.2°
Prima Flat propensionis / <1120>±5°
SecondaryFlat propensionis / Pii faciem sursum:90° CW e Primo flat士5°
Prima Flat Longitudo / 32.5 mm 士2.0 mm
Secundarium Flat Longitudo / 18.0 mm士2.0 mm
SCARIFICATIO propensionis <1100>±1.0° /
SCARIFICATIO propensionis 1.0mm+0.25 mm/-0.00 mm /
SCARIFICATIO Anglus 90°+5°/-1° /
Crassitudo 500.0um士25.0um
Conductive Type Semi-insulating

Crystal qualis notitia

ltem 6-inch 4-inch
Resistentia ≥1E9Q·cm
Polytypus Nemo licet
Micropipe densitas ≤0.5/cm2 ≤0.3/cm2
Hex Plates per altum intensio lumen Nemo licet
Visual Carbon Inclusions by high Cumulativo area≤0.05%
4 6 Semi-Insulating SiC Substrate-2

Resistivity-Exertus a Non-contactus resistentia.

4 6 Semi-Insulating SiC Substrate-3

Micropipe densitas

4 6 Semi-Insulating SiC Substrate-4
SiC lagana

  • Priora:
  • Next: