Silicon carbide laganum processum productionis

Silicon laganum

Silicon laganum carbidefit ex alta puritate pulveris Pii et summae puritatis carbonis pulveris sicut materiae rudis, et carbide crystalli pii per modum translationis vaporum corporis (PVT), et in processum inPii carbide laganum.

Rudis materialis synthesis. Princeps puritatis pii pulveris et summae puritatis carbonis pulveris secundum certam rationem commiscebantur, et particulae carbidae silicae in caliditate supra 2,000℃ summatim componebantur. Post contritionem, purgationem et alios processus, princeps puritatis pii carbide pulveris rudis materiae, quae requisitis incrementi cristalli parantur.

② Crystal incrementum. SIC pulveris altae puritatis utens ut materia rudis, crystallus per translationem corporis vaporum crevit (PVT) methodus utendi fornacem cristalli sui auctam.

processus regulae. Impetratum carbide cristalli Pii consecutus est ab uno orientatore cristallino X-radio directus, deinde humus et involutus, et in vexillum diametri pii carbide crystalli discessit.

④ crystallo secando. Apparatu secando multi-linea utentes, crystalla carbida pii, in laminas tenues incisae sunt cum crassitudine non plus quam 1mm.

⑤ Chip stridor. laganum molitum est ad planitiam et asperitatem desideratam ab adamante stridor humorum diversarum magnitudinum particulae.

⑥ Chip poliendo. Pii carbide politi sine damno superficiei per politionem mechanicam et chemicam expolitionem mechanicam consecutus est.

Chip deprehensio. Utere microscopio optico, diffractometro X-radio, vi atomica microscopio, non-contactu resistivitatis probatoris, superficiei probatoris plani, superficialis defectus probatoris comprehensivi et aliorum instrumentorum et instrumentorum ad detectionem microtubuli densitatis, qualitatis crystalli, asperitatis superficiei, resistivity, warpagei, curvaturae; crassities mutatio, superficies scaber et alii parametri pii laganum carbide. Secundum hoc, qualitas gradus spumae determinatur.

Chip purgatio. In scheda pii carbide poliendo purgatur cum agente purgante et aqua pura, ut residua poliuntur liquida et alia superficies stercora super linteolo poliendo, et tunc laganum inflatum et siccum agitatur per nitrogenium puritatis ultra altam et machinam siccantem; laganum in capsula pura inclusum in cistam super-mundam conclavi ad amni paratam ad usum carbidam lagani pii formandam.

Maior magnitudine spumae, eo difficilius congruens cristalli incrementi et technologiae processus, et superior fabricandi efficaciam amni machinis, inferior unitas gratuita.


Post tempus: Nov-24-2023