Tantalum carbide (TaC)Est compositum binarium ex Tantali et carbonis cum formula chemica TaC x, ubi x inter 0.4 et 1. variari solet, durissimae, fragilis, refractoriae materiae ceramicae cum conductivity metallicis. Pulveres fusco-cinerei sunt et a sintering solere discursum sunt.
Tantalum carbideEst magna materia metallica. One very important use of tantalum carbide est tantalum carbide coating.
Product characteres Tantalum carbide coating
Princeps exustio punctum: liquefactio punctumtantalum carbidetam alte3880°Cquae efficit ut stabilis sit in ambitibus calidis nec facile liquescere vel imminui.
Laborans conditio:In genere, conditio normalis Operationis Tantali carbide (TaC) est 2200°C. Considerans altum suum punctum liquescens, TaC destinatur tantas temperaturas sustinere sine integritate structurae suae amittendo.
Duritia et labore resistentia: Altissimam duritiem habet (Mohs durities circa IX-X) et efficaciter indumentis resistere potest et exasperat.
Chemical stabilitas: Habet stabilitatem chemicam plerisque acida et alcali, et corrosioni et chemicis reactionibus resistere potest.
Scelerisque conductivityBonum scelerisque conductivity dat ut efficaciter discutiat et perducat calorem, reducendo ictum caloris cumulus in materia.
Applicationem missionum et commoda in semiconductori industria
MOCVD armorum: in MOCVD (depositio vaporum chemicorum) armorum;tantalum carbide coatingsreactionem cubiculorum aliorumque elementorum summus temperatus tutari adhibentur, exesa armorum deposita minuere et vitae usum instrumentorum extendere.
Commoda: Summus temperatus resistentia emendare apparatum, sustentationem frequentiam et impensas minuere, et efficientiam producere meliorem.
Azymum processus: In laganum processus et systemata transmissionis adhibita, tantalum carbidum coatings resistentiae et corrosionis apparatum resistentiae indumentum augere possunt.
Commoda: Reducere quaestiones qualitatis productum per lapsum vel corrosionem causatum, et stabilitatem et constantiam lagani processus curant.
Processus semiconductor instrumentorum: In processu semiconductori instrumentorum, ut ion implantatorum et etcherorum, tantalum carbide coatings durabilitatem instrumentorum emendare possunt.
Commoda: Praetende vitam instrumentorum ministerium, minuendi tempus et subiciendi gratuita, et efficientiam melioris productionis.
Princeps temperatus areas: In electronicis componentibus et machinis in ambitibus calidis, tantalum carbidum coatings materias ab calidis temperaturis tueri solebant.
Commoda: Perficite stabilitatem et constantiam partium electronicarum sub conditionibus extremae caliditatis.
Future Development Trends
Materia EmendatioCum progressu scientiae materialis, formula et depositio technologiaetantalum carbide coatingsperget emendare ad emendare perficiendum ac reducere impensas. Exempli causa, materiae efficiens durabiliores et humiles possunt augeri.
Depositio Technologiae: Poterit habere efficaciorem et accuratam depositionis technologiam, ut emendavit PVD et CVD technologias, ad optimize qualitatem et observantiam tantalum carbide coatings.
Novum Application Areas: Applicatio areas oftantalum carbide coatingsaugebit magis altae technicae et industriae agros, sicut aerospace, industria et industrias autocineticam, ut obviam postulationi materiae summus perficiendi.
Post tempus: Aug-08-2024