2″ Gallium Oxide Substratum

Brevis descriptio:

2″ Gallium Oxide Substratum- Optimize cogitationes tuas semiconductores cum semicerae qualitate 2″ Gallium Oxide Substratum, ad altiorem effectum in potentia electronicarum et UV applicationum machinatum.


Product Detail

Product Tags

Semiceraexcitatur offerre2" Gallium Oxide Substrates, acies materiae ad augendae perficiendi semiconductoris machinis provectae. Hae subiectae ex Gallio Oxide factae2O3) , bandgap ultra-latae elaborare , easque praecipuam electionem facere pro summus potentia , summus frequentia , UV applicationes optoelectronicae .

 

Features Key:

• ultra-Bandgap: The2" Gallium Oxide Substratespraestantem fasciculum praebent circiter 4.8 eV, permittentes ad altiorem intentionem et caliditatem operationis, longe excedentes capacitates materiae semiconductoris traditionalis sicut Pii.

Eximia Naufragii Voltage: Hae subiectae cogitationes praestant ad altiores intentiones signanter tractandas, easque ad potentiam electronicorum perficiendam, praesertim in applicationibus altae intentionis.

Optimum Scelerisque Conductivity: Praestante stabilitate scelerisque, hae subiectae constantem observantiam servant etiam in ambitibus maximis scelerisque, idealis potentiae et applicationum summus temperatus.

Summus Quality Material: The2" Gallium Oxide SubstratesDensitates defectus humiles offerunt et qualitatem crystallinam altam, ut certa et efficax opera tua semiconductoris machinationes efficias.

Applications versatile: Substratae hae ad range applicationes aptae sunt, inter quas transistores potentiae, Schottky diodes, et UV-C duxerunt cogitationes, quae tam validum fundamentum tam potentiae quam innovationes optoelectronic praebent.

 

Reserare plenam potentiale machinas semiconductor tuae cum Semicera's2" Gallium Oxide Substrates. Substrationes nostrae ordinantur ad postulandas necessitates applicationum progressuum hodiernorum, ad altam observantiam, constantiam et efficientiam procurandam. Semicera elige pro materia semiconductoris artis publica quae innovationem pellunt.

Items

Productio

Inquisitionis

phantasma

Crystal Parameters

Polytypus

4H

Superficiem sexualis errore

<11-20 >4±0.15°

Electrical Parameters

Dopant

n-genus Nitrogenium

Resistentia

0.015-0.025ohm·cm

Mechanica Parametri

Diameter

150.0±0.2mm

Crassitudo

350±25 μm

Prima plana propensionis

[1-100]±5°

Prima plana longitudo

47.5±1.5mm

Secundarium plana

Nullus

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm(5mm*5mm)

≤5 μm(5mm*5mm)

≤10 μm(5mm*5mm)

Arcum

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Frons (Si-face) asperitas (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Structure

Micropipe density

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Metallum immunditiae

≤5E10atoms/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Ante Quality

Front

Si

Superficiem metam

Si-face CMP

Particulas

≤60ea/laganum (size≥0.3μm)

NA

Exasperat

≤5ea/mm. Cumulativo longitudo ≤Diameter

Cumulative length≤2*Diameter

NA

Orange cortices / foveas / maculas / striations / rimas / contagione

Nullus

NA

Ora eu / indents / fractura / hex p

Nullus

Polytypus areis

Nullus

Cumulativo area≤20%

Cumulativo area≤30%

Ante laser vestigium

Nullus

Back Quality

Retro metam

C-faciem CMP

Exasperat

≤5ea/mm,Cumulative length≤2*Diameter

NA

Retro defectus (ore eu / indents)

Nullus

Retro asperitatem

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Back laser notati

I mm (a summo ore)

Ore

Ore

Chamfer

Packaging

Packaging

Epi-paratum in vacuo packaging

Multi laganum cassette packaging

*Nota "NA" significat petitionem nullam Items not mentioned may refer to SEMI-STD.

tech_1_2_size
SiC lagana

  • Previous:
  • Next: