Qualitas tantalum carbide (TaC) coating

Brevis descriptio:

Semicera TaC efficiens praebet eximiam summus temperaturae stabilitatem, SiC supereminentem, usque ad 2300℃ obsistentem. Specimen pro aerospace et semiconductor tertiae generationis unius cristalli incrementi, praebet corrosionem, oxidationem et resistentiam gerunt. Elige semicera pro top-terno fabricandis fabricandis et qualitatibus.

 

 


Product Detail

Product Tags

Semicera tantalum carbidi speciali (TaC) coatings variis componentibus et vectoribus praebet.Semicera ducens processum efficiens efficit tantalum carbidam (TaC) coatings ut altam puritatem, caliditatem stabilitatem et altam tolerantiam chemicae efficiat, productum meliorando qualitatem SIC/GAN crystallorum et epi stratorum (Graphite obductis susceptor TaC) et vitam clavium reac- tium extendere. Usus Tantali carbidis TaC coating est problema extremam solvendi et qualitatem cristalli incrementi solvendi, et Semicera eruptionem solvit technologiam tantalum carbidam efficiens (CVD), ad gradum internationalem provectum attingens.

 

Post annos evolutionis Semicera technicae artis vicitCVD TaCcum communi studio R&D department. Vitia in processu uncta SiC uncta facile occurrunt, sed post usuraTacdifferentia, significans. Infra comparatio laganae cum TaC et sine TaC, ac semicerae partium unius cristalli incrementi

 
_20240227150045

apud et sine tac

_2024022715053

Post usura TAC (ius)

Praeterea vita servitus productorum Semicerae TaC efficiens longior est et magis resistens caliditati quam tunicae SiC. Post longum tempus datae mensurae laboratorium, noster TaC diu laborare potest Celsius maximo 2300 graduum. Nonnulla exempla e nostris sunt.

_20240227145010

(a) Schematica diagramma SiC unica crystalli ingot crescens fabrica per PVT methodum (b) Top TaC semen bracket obductis (including semen SiC) (c) TAC-coated graphite anulus

ZDFVzCFV
Praecipuum pluma
Locus Semicera Opus
Locus operis semicera 2
Apparatus armorum
Rhoncus processus, purgatio chemica, CVD coating
Nostra religio

  • Priora:
  • Next: