Sic Pin Trays pro ICP Etching processibus in DUXERIT Industry

Brevis descriptio:

Semicerae Sic Pin Trayes pro ICP Processus Etching in Industria ducti nominatim designati sunt ad augendam efficientiam et praecisionem in applicationibus etching. Hae claviculae claviculae factae ex carbide siliconis altae qualitatem praestantem praebent stabilitatem thermarum, resistentiam chemicam et vires mechanicas. Specimen pro postulandis conditionibus processus fabricandi DUXERIT, Semicerae SiC clavi emunctoria uniformis engraving, extenuant contagionem, et altiore processu firmitatem emendant, conferunt ad GENEROSUS DUCTUS productionem.


Product Detail

Product Tags

Product Description

Societas nostra SiC efficiens operas processus per methodum CVD in superficie graphitarum, ceramicorum et aliarum materiarum praebet, ut gasi speciales in caliditate carbonis et siliconis reant, ad altam puritatem SiC molecularum, molecularum in superficie materiarum iactatarum depositarum; formatam SIC tutela iacuit.

Praecipua lineamenta:

1. caliditas oxidationis resistentia;

oxidatio resistentia adhuc optima est, cum siccus tam altus est quam 1600 C.

2. Puritas alta : factae depositionis vaporis chemicae sub conditione chlorinationis caliditatis.

3. Exesa resistentia: durities alta, superficies compacta, particulae tenuis.

4. Corrosio resistentiae: acidum, alcali, salis et reagentia organica.

Silicon carbide signatum orbis (2)

Specificationes principales de CVD-SIC Coating

Sic-CVD Properties

Crystal Structure

FCC β phase

Density

g/cm

3.21

duritia

Vickers duritia

2500

Frumenti Size

μm

2~10

Puritas chemica

%

99.99995

Calor Capacitas

J·kg-1 ·K-1

640

Sublimatio Temperature

2700

Fortitudo Felix

MPa (RT 4-punctum)

415

Modulus

Gpa (4pt bend, 1300℃)

430

Scelerisque Expansion (CTE)

10-6K-1

4.5

Scelerisque conductivity

(W/mK)

300

Locus Semicera Opus
Locus operis semicera 2
Apparatus apparatus
Rhoncus processus, purgatio chemica, CVD coating
Nostra opera

  • Priora:
  • Next: