Sicut unus core components ofMOCVD armorumbasis graphita est corpus ferebat et calefaciens subiectum, quod directe determinat uniformitatem et puritatem cinematographicae materiae, ita eius qualitas directe afficit praeparationem schedae epitaxialis, et simul cum augmento numeri. usus et mutatio condicionum operandi, ad consumabilium pertinentes facillime deferre.
Quamvis graphita optimam habeat scelerisque conductivity et stabilitatem, bonum tamen commodum habet tamquam fundamentum quoddamMOCVD armorumsed in processu productionis, graphite pulverem residuis gasorum corrosivis et organicis metallicis corrodet, et vita servitii basis graphitae multum imminuetur.Eodem tempore, graphite cadens pulveris pollutio ad chip.
Eventus technologiae coatingis pulveris solidamentum superficiei praebere potest, conductivity scelerisque augere, et caloris distributionem aequare, quae principale technologiae ad hanc quaestionem solvendam facta est.Graphite basi inMOCVD armorumambitus usus, superficies basi graphita vestiens occurrere debet his notis:
(1) Basis graphita plene involvi potest, et densitas bona est, alioquin basis graphita facile in gas mordax erodatur.
(2) Compositum robur cum basi graphite altum est curare ut litura non facile cadat post aliquot cyclos caliditas et humilis temperatura.
(3) Bonum chemica stabilitatis habet ad vitandum defectum in caliditate et atmosphaera corrosiva.
SiC commoda corrosionis resistentiae habet, magna conductivity scelerisque, inpulsa scelerisque resistentia et stabilitas chemicae alta, et bene operari potest in atmosphaera epitaxiali GaN.Praeterea scelerisque expansio coefficientis SiC ab eo graphitis minime differt, ergo SiC est praelatus materia superficiei basi graphitae tunicae.
Nunc, communis SiC maxime est generis 3C, 4H et 6H, et usus SiC diversorum generum cristalli diversi sunt.Exempli gratia, 4H-SiC summus potentiae cogitationes efficere potest;6H-SiC firmissimum est ac machinas photoelectricas fabricare potest;Propter similem structuram GaN, 3C-SiC adhiberi possunt ad stratum epitaxialem GaN et fabricare machinas SiC-GaN RF.3C-SiC etiam vulgo diciturβ-SiC et magni ususβ-SiC sicut materia pellicula et membrana, sicβ-SiC in praesenti materia principalis efficiens est.
Post tempus: Nov-06-2023