Semiconductor Silicon fundatur GaN epitaxy

Brevis descriptio:

Semicera Energy Technologia Co, Ltd. est primarius supplementus ceramicorum semiconductorium provectorum et sola in Sinis fabrica quae simul altam puritatem carbidam ceramicam pii praebere potest (praesertim in Recrystallized SiC) et CVD SiC efficiens. Insuper etiam in campis ceramicis, ut alumina, aluminium nitride, zirconia, et nitride pii, etc.

 

Product Detail

Product Tags

Pii-fundatur GaN epitaxy

Product Description

Societas nostra SiC efficiens operas processus per methodum CVD in superficie graphitarum, ceramicorum et aliarum materiarum praebet, ut gasi speciales in caliditate carbonis et siliconis reant, ad altam puritatem SiC molecularum, molecularum in superficie materiarum iactatarum depositarum; formatam SIC tutela iacuit.

Praecipua lineamenta:

1. caliditas oxidationis resistentia;

oxidatio resistentia adhuc optima est, cum siccus tam altus est quam 1600 C.

2. Puritas alta : factae depositionis vaporis chemicae sub conditione chlorinationis caliditatis.

3. Exesa resistentia: durities alta, superficies compacta, particulae tenuis.

4. Corrosio resistentiae: acidum, alcali, salis et reagentia organica.

Specificationes principales de CVD-SIC Coating

Sic-CVD Properties

Crystal Structure

FCC β phase

Density

g/cm

3.21

duritia

Vickers duritia

2500

Frumenti Size

μm

2~10

Puritas chemica

%

99.99995

Calor Capacitas

J·kg-1 ·K-1

640

Sublimatio Temperature

2700

Fortitudo Felix

MPa (RT 4-punctum)

415

Modulus

Gpa (4pt bend, 1300℃)

430

Scelerisque Expansion (CTE)

10-6K-1

4.5

Scelerisque conductivity

(W/mK)

300

Locus Semicera Opus
Locus operis semicera 2
Apparatus armorum
Rhoncus processus, purgatio chemica, CVD coating
Nostra religio

  • Priora:
  • Next: